Силицијумски епитаксични сусцептори

Можете бити сигурни да ћете купити силицијумске епитаксиозне сусцепторе из наше фабрике. Семицорек-ов Силицон Епитаки Сусцептор је висококвалитетан производ високе чистоће који се користи у индустрији полупроводника за епитаксијални раст вафер чипа. Наш производ има врхунску технологију премаза која осигурава да је премаз присутан на свим површинама, спречавајући љуштење. Производ је стабилан на високим температурама до 1600°Ц, што га чини погодним за употребу у екстремним окружењима.

Пошаљи упит

Опис производа

Наши силицијумски епитаксијски пријемници су направљени ЦВД хемијским таложењем паре у условима високотемпературног хлорисања, обезбеђујући високу чистоћу. Површина производа је густа, са финим честицама и високом тврдоћом, што га чини отпорним на корозију на киселине, алкалије, соли и органске реагенсе.
Наш производ је дизајниран да постигне најбољи ламинарни образац струјања гаса, гарантујући уједначеност термичког профила. Наши силицијумски епитаксијски пријемници спречавају било какву контаминацију или дифузију нечистоћа током процеса епитаксијалног раста, обезбеђујући резултате високог квалитета.
У Семицорек-у се фокусирамо на пружање висококвалитетних, исплативих производа нашим купцима. Наши силицијумски епитаксијски пријемници имају предност у цени и извозе се на многа европска и америчка тржишта. Циљ нам је да будемо ваш дугорочни партнер, испоручујући производе доследног квалитета и изузетну услугу за кориснике.

Параметри силицијумских епитаксијалних сусцептора

Главне спецификације ЦВД-СИЦ премаза
СиЦ-ЦВД својства
Кристална структура	ФЦЦ И² фаза
Густина	г/цм ³	3.21
Тврдоћа	Викерсова тврдоћа	2500
Величине зрна	И¼м	2~10
Хемијска чистоћа	%	99.99995
Топлотни капацитет	Ј·кг-1 ·К-1	640
Температура сублимације	℃	2700
Фелекурал Стренгтх	МПа (РТ 4 тачке)	415
Иоунг'с Модулус	Гпа (4пт савијање, 1300а)	430
Термичка експанзија (Ц.Т.Е)	10-6К-1	4.5
Топлотна проводљивост	(В/мК)	300

Параметри силицијумских епитаксијалних сусцептора

- Избегавајте љуштење и обезбедите премаз на целој површини
Отпорност на оксидацију на високим температурама: стабилан на високим температурама до 1600°Ц
Висока чистоћа: направљено ЦВД хемијским таложењем паре под условима хлорисања на високој температури.
Отпорност на корозију: висока тврдоћа, густа површина и фине честице.
Отпорност на корозију: киселине, алкалије, соли и органски реагенси.
- Постигните најбољи ламинарни образац струјања гаса
- Гарантује равномерност термичког профила
- Спречите било какву контаминацију или дифузију нечистоћа