О нама

Семицорек Адванцед Материал Тецхнологи Цо., Лтд је водећи висококвалитетни добављач врхунских производа за хемијско таложење из паре (ЦВД) СиЦ премаза у Кини. Посвећени смо истраживању и развоју иновативних полупроводничких материјала, посебно технологије СиЦ премаза и њене примене у индустрији полупроводника. Нудимо широк асортиман висококвалитетних производа као нпрГрафитни пријемници обложени СиЦ, пресвучен силицијум карбидом, дубоки УВ епитаксијски пријемници, ЦВД грејачи супстрата, ЦВД СиЦ носачи плочица, наполитанке, добро каополупроводничке компонентеикерамички производи од силицијум карбида.

Танки филм СиЦ који се користи у епитаксији ЛЕД чипова и силицијумским монокристалним супстратима има кубичну фазу са истом структуром кристалне решетке као и дијамант, а по тврдоћи је други након дијаманта. СиЦ је широко признат полупроводнички материјал широког појаса са огромним потенцијалом за примену у индустрији полупроводничке електронике и има одличне физичке и хемијске особине, као што су висока топлотна проводљивост, низак коефицијент топлотног ширења и отпорност на високе температуре и отпорност на корозију.

У производњи електронских уређаја, облатне морају да прођу кроз неколико корака, укључујући силицијумску епитаксију, у којој се облатне носе на графитним подлогама. Квалитет и својства сусцептора играју кључну улогу у квалитету епитаксијалног слоја вафла. Графитна база је једна од основних компоненти МОЦВД опреме и носилац је и грејач подлоге. Његови термички стабилни параметри перформанси као што је термичка униформност играју одлучујућу улогу у квалитету раста епитаксијалног материјала и директно одређују просечну униформност и чистоћу.

У Семицорек-у користимо ЦВД за производњу густих И²-СиЦ филмова на изостатичком графиту високе чврстоће, који има већу чистоћу у поређењу са синтерованим СиЦ материјалима. Наши производи као што су графитни пријемници обложени СиЦ-ом дају графитној бази посебним особинама, чинећи површину графитне базе компактном, глатком и непорозном, врхунском отпорношћу на топлоту, топлотном униформношћу, отпорном на корозију и оксидацију.

Технологија премазивања СиЦ-а је добила широку примену, посебно у порасту ЛЕД епитаксијалних носача и Си монокристалној епитаксији. Са брзим растом индустрије полупроводника, потражња за технологијом и производима СиЦ премаза значајно се повећала. Наши производи за премазивање од СиЦ имају широк спектар примена у ваздухопловству, фотонапонској индустрији, нуклеарној енергији, брзој железници, аутомобилској и другим индустријама.

Примена производа

ЛЕД ИЦ епитаксија

Монокристална силицијумска епитаксија

РТП/ТРА носачи плочица

ИЦП/ПСС гравирање

Плазма гравирање

СиЦ епитаксија

Монокристална силицијумска епитаксија

ГаН епитаксија на бази силицијума

Дубока УВ епитаксија

полупроводнички бакропис

фотонапонска индустрија

СиЦ епитаксијални ЦВД систем

Опрема за раст епитаксијалног филма СиЦ

МОЦВД реактор

МОЦВД систем

ЦВД опрема

ПЕЦВД системи

ЛПЕ системи

Аиктрон системи

Нуфларе системи

ТЕЛ ЦВД системи

Веццо системи

ТСИ системи