> Вести > Индустри Невс

Индустри Невс

Производња монокристалног силицијума

Три примарне методе које се користе у производњи монокристалног силицијума су метода Чохралског (ЦЗ), метода Киропулоса и метода плутајуће зоне (ФЗ).

Опширније

Оксидација у обради полупроводника

Процеси оксидације играју кључну улогу у спречавању таквих проблема стварањем заштитног слоја на плочици, познатог као оксидни слој, који делује као баријера између различитих хемикалија.

Опширније

Шта је силицијум нитрид

Силицијум нитрид (Си3Н4) је кључни материјал у развоју напредне високотемпературне структуралне керамике.

Опширније

Разумевање разлика у гравирању између силицијумских и силицијум карбидних плочица

Процес гравирања: силицијум наспрам силицијум карбида

Опширније

Шта је електростатичка глава (ЕСЦ)?

У производњи полупроводника, прецизност и стабилност процеса гравирања су најважнији. Један од критичних фактора у постизању висококвалитетног јеткања је осигурање да облатне буду савршено равне на тацни током процеса.

Опширније

ГаН и СиЦ: коегзистенција или замена?

Потицање веће густине снаге и ефикасности постало је примарни покретач иновација у више индустрија, укључујући центре података, обновљиву енергију, потрошачку електронику, електрична возила и технологије аутономне вожње. У домену материјала са широким појасом (ВБГ), галијум нитрид (ГаН) и силицијум ......

Опширније

<...11 12 13 14 15...32 >