Планарна мета монокристалног силицијума

Монокристални силицијумпланарна мета се обично обрађује високопрецизном опремом за сечење од монокристалних силицијумских ингота произведених методом Чохралског. Да би се задовољиле потребе купаца, монокристална силицијумска планарна мета се може исећи у жељене облике за ваше цењене купце. Прецизна технологија обраде брушења и полирања осигурава врхунску равност површине циљаног материјала, пружајући снажну гаранцију за таложење танких филмова.

Планарна мета монокристалног силицијума се ставља унутра у вакуумску реакциону комору заједно са супстратом који се облаже током процеса таложења филма. Када се планарна мета монокристалног силицијума бомбардује јонима високе енергије, атоми силицијума на њеној површини се распршују. Ови распршени атоми силицијума затим мигрирају и таложе се на површину супстрата, на крају формирајући силицијумски танак филм.

Планарна мета монокристалног силицијума служи као извор материјала за таложење танког филма. Сви атоми силицијума депоновани на површину плочице потичу од монокристалних силицијумских планарних мета. Стога, квалитет монокристалног силицијумског планарног мете директно одређује чистоћу, униформност и друга кључна својства депонованог танког филма.

Карактеристика врхунске чистоће даје монокристалну силицијумску планарну мету способношћу да спречи нечистоће да контаминирају танки филм. Ово значајно побољшава електричне перформансе полупроводничких уређаја. Побољшање униформности и адхезије танких филмова има користи од његове високо уређене кристалне структуре, која омогућава честицама распршивања да мигрирају и таложе се на површини плочице редовније. Дизајн планарне структуре је погодан за велике површине и захтеве за распршивањем велике брзине, и применљив је на сценарије производње великих размера као што су полупроводничке плочице и дисплеји.