ИЦП систем за јеткање плазмом за ПСС процес

Изаберите Семицорек-ов ИЦП Пласма Етцхинг систем за ПСС процес за висококвалитетне процесе епитаксије и МОЦВД. Наш производ је дизајниран посебно за ове процесе, нудећи врхунску отпорност на топлоту и корозију. Са чистом и глатком површином, наш носач је савршен за руковање нетакнутим облатама.

Пошаљи упит

Опис производа

Семицорек-ов ИЦП Плазма систем јеткања за ПСС процес пружа одличну отпорност на топлоту и корозију за руковање плочицама и процесе наношења танког филма. Наш фини СиЦ кристални премаз нуди чисту и глатку површину, обезбеђујући оптимално руковање нетакнутим плочицама.

У Семицорек-у се фокусирамо на пружање висококвалитетних, исплативих производа нашим купцима. Наш ИЦП плазма систем нагризања за ПСС процес има предност у цени и извози се на многа европска и америчка тржишта. Циљ нам је да будемо ваш дугорочни партнер, испоручујући производе доследног квалитета и изузетну услугу за кориснике.

Контактирајте нас данас да бисте сазнали више о нашем ИЦП Пласма Етцхинг систему за ПСС процес.

Параметри ИЦП Пласма Етцхинг система за ПСС процес

Главне спецификације ЦВД-СИЦ премаза
СиЦ-ЦВД особине
Цристал Струцтуре	ФЦЦ β фаза
Густина	г/цм ³	3.21
Тврдоћа	Викерсова тврдоћа	2500
Величина зрна	μм	2~10
Хемијска чистоћа	%	99.99995
Хеат Цапацити	Ј кг-1 К-1	640
Сублиматион Температуре	℃	2700
Фелекурал Стренгтх	МПа (РТ 4 тачке)	415
Јангов модул	Гпа (4пт савијање, 1300℃)	430
Термичка експанзија (Ц.Т.Е)	10-6К-1	4.5
Топлотна проводљивост	(В/мК)	300