ИЦП Пласма Етцхинг Плате

Семицорек-ова ИЦП Пласма Етцхинг плоча пружа врхунску отпорност на топлоту и корозију за руковање плочицама и процесе наношења танког филма. Наш производ је пројектован да издржи високе температуре и грубо хемијско чишћење, обезбеђујући издржљивост и дуговечност. Са чистом и глатком површином, наш носач је савршен за руковање нетакнутим облатама.

Пошаљи упит

Опис производа

Када је у питању таложење танког филма и руковање плочицама, верујте Семицорек-овој ИЦП Пласма Етцхинг плочи. Наш производ нуди врхунску отпорност на топлоту и корозију, равномерну термичку униформност и оптималне ламинарне обрасце протока гаса. Са чистом и глатком површином, наш носач је савршен за руковање нетакнутим облатама.

Наша ИЦП Пласма Етцхинг плоча је дизајнирана да постигне најбољи ламинарни образац протока гаса, обезбеђујући равномерност термичког профила. Ово помаже у спречавању било какве контаминације или дифузије нечистоћа, обезбеђујући висококвалитетан епитаксијални раст на чипу плочице.

Контактирајте нас данас да бисте сазнали више о нашој ИЦП Пласма Етцхинг плочи.

Параметри ИЦП Пласма Етцхинг Плате

Главне спецификације ЦВД-СИЦ премаза
СиЦ-ЦВД својства
Кристална структура	ФЦЦ И² фаза
Густина	г/цм ³	3.21
Тврдоћа	Викерсова тврдоћа	2500
Величине зрна	И¼м	2~10
Хемијска чистоћа	%	99.99995
Топлотни капацитет	Ј·кг-1 ·К-1	640
Температура сублимације	℃	2700
Фелекурал Стренгтх	МПа (РТ 4 тачке)	415
Иоунг'с Модулус	Гпа (4пт савијање, 1300а)	430
Термичка експанзија (Ц.Т.Е)	10-6К-1	4.5
Топлотна проводљивост	(В/мК)	300