СиЦ АЛД рецептор

Семицорек СиЦ АЛД Сусцептор нуди бројне предности у АЛД процесима, укључујући стабилност при високим температурама, побољшану униформност и квалитет филма, побољшану ефикасност процеса и продужен животни век пријемника. Ове предности чине СиЦ АЛД Сусцептор вредним алатом за постизање танких филмова високих перформанси у различитим захтевним применама.**

Пошаљи упит

Опис производа

Предности СемицорексаСиЦ АЛД рецептор:

Стабилност на високим температурама:СиЦ АЛД Сусцептор одржава свој структурни интегритет на повишеним температурама (до 1600°Ц), омогућавајући високотемпературне АЛД процесе који резултирају гушћим филмовима са побољшаним електричним својствима.

Хемијска инертност:СиЦ АЛД Сусцептор показује одличну отпорност на широк спектар хемикалија и прекурсора који се користе у АЛД, минимизирајући ризик од контаминације и обезбеђујући конзистентан квалитет филма.

Равномерна расподела температуре:Висока топлотна проводљивост СиЦ АЛД Сусцептора промовише равномерну дистрибуцију температуре по површини пријемника, што доводи до уједначеног таложења филма и побољшаних перформанси уређаја.

Ниско испуштање гасова:СиЦ има ниска својства издвајања гасова, што значи да ослобађа минималне нечистоће на високим температурама. Ово је кључно за одржавање чистог окружења за обраду и спречавање контаминације депонованог филма.

Отпор плазме:СиЦ показује добру отпорност на јеткање плазмом, што га чини компатибилним са АЛД (ПЕАЛД) процесима побољшаним плазмом.

Дуг животни век:Издржљивост и отпорност на хабање СиЦ АЛД сусцептора омогућавају дужи век трајања, смањујући потребу за честим заменама и смањујући укупне оперативне трошкове.

Поређење АЛД и КВБ:

Таложење атомским слојем (АЛД) и хемијско таложење паром (ЦВД) су широко коришћене технике таложења танког филма са различитим карактеристикама. Разумевање њихових разлика је кључно за одабир најприкладније методе за одређену примену.

АЛД против ЦВД

Кључне предности АЛД-а:

Изузетна контрола дебљине и униформност:Идеалан за апликације које захтевају прецизност на атомском нивоу и конформне премазе на сложеним геометријама.

Обрада на ниским температурама:Омогућава таложење на подлогама осетљивим на температуру и шири избор материјала.

Висок квалитет филма:Резултат је густ филм без рупица са мало нечистоћа.

Кључне предности ЦВД-а:

Виша стопа депозиције:Погодно за апликације које захтевају брже таложење и дебље филмове.

Нижа цена:Исплативији за таложење великих површина и мање захтевне апликације.

Свестраност:Може депоновати широк спектар материјала, укључујући метале, полупроводнике и изолаторе.