Вести

ТСМЦ: 2нм процесна пробна производња следеће године

У свом недавно објављеном годишњем извештају, председник ТСМЦ Деиин Лиу и извршни директор Цхиех-Јиа Веи открили су напредак у вези са 2нм процесом.

Сценарији примене за епитаксијалне слојеве

Знамо да додатни епитаксијални слојеви морају бити изграђени на неким подлогама за плочице за производњу уређаја, типично ЛЕД уређаја који емитују светлост, који захтевају епитаксијалне слојеве ГаАс на врху силицијумских супстрата; СиЦ епитаксијални слојеви се узгајају на проводним СиЦ подлогама за ......

Разговарамо о ЦВД пећи

Кина је остала највеће тржиште полупроводничке опреме

Светска продаја опреме за производњу полупроводника порасла је за 5 процената са 102,6 милијарди долара у 2021. на рекордних 107,6 милијарди долара прошле године, СЕМИ, индустријско удружење које представља глобални ланац снабдевања електроником и производњом.

ЦВД процес за епитаксију СиЦ плочице

ЦВД процес за епитаксију СиЦ плочице укључује таложење СиЦ филмова на СиЦ супстрат коришћењем реакције у гасној фази. Прекурсорски гасови СиЦ, обично метилтриклоросилан (МТС) и етилен (Ц2Х4), уводе се у реакциону комору где се супстрат СиЦ загрева на високу температуру (обично између 1400 и 1600 сте......

Јапан је недавно ограничио извоз 23 врсте опреме за производњу полупроводника

Јапан је недавно ограничио извоз 23 врсте опреме за производњу полупроводника. Најава је изазвала таласе широм индустрије, јер се очекује да ће овај потез имати значајан утицај на глобалне ланце снабдевања за производњу полупроводника.