Семицорек нуди различите типове 4Х и 6Х СиЦ плочица. Већ дуги низ година смо произвођач и добављач наполитанки. Наша двоструко полирана 6-инчна СиЦ плочица Н-типа има добру предност у цени и покрива већину европских и америчких тржишта. Радујемо се што ћемо постати ваш дугорочни партнер у Кини.
Семицорек има комплетну линију производа од силицијум карбида(СиЦ), укључујући 4Х и 6Х супстрате са Н-типом, П-типом и полуизолационим плочицама високе чистоће, могу бити са или без епитаксије. Наш 4-инчни Н-тип СиЦ (силицијум карбид) супстрат је врста висококвалитетне плочице направљене од једног кристала силицијум карбида са допингом Н-типа, који је двоструко полиран.
6-инчни Н-тип СиЦ Вафер се углавном користи у новим енергетским возилима, високонапонском преносу и подстаницама, белој техници, брзим возовима, електричним моторима, фотонапонским инвертерима, импулсним изворима напајања и другим пољима, који имају предности смањења опреме губитак енергије, побољшање поузданости опреме, смањење величине опреме и побољшање перформанси опреме и имају незаменљиве предности у изради енергетских електронских уређаја.
Предмети |
Производња |
Истраживања |
Думми |
Цристал Параметерс |
|||
Политипе |
4Х |
||
Грешка у оријентацији површине |
<11-20 >4±0,15° |
||
Елецтрицал Параметерс |
|||
Допант |
Азот н-типа |
||
Отпорност |
0,015-0,025 охм·цм |
||
Механички параметри |
|||
Пречник |
150.0±0.2мм |
||
Дебљина |
350±25 μм |
||
Примарна равна оријентација |
[1-100]±5° |
||
Примарна равна дужина |
47,5±1,5 мм |
||
Секундарни стан |
Ниједан |
||
ТТВ |
≤5 μм |
≤10 μм |
≤15 μм |
ЛТВ |
≤3 μм (5мм*5мм) |
≤5 μм (5мм*5мм) |
≤10 μм (5мм*5мм) |
Бов |
-15 μм ~ 15 μм |
-35μм ~ 35μм |
-45μм ~ 45μм |
Варп |
≤35 μм |
≤45 μм |
≤55 μм |
Предња (Си-фаце) храпавост (АФМ) |
Ра≤0,2нм (5μм*5μм) |
||
Структура |
|||
Густина микропипе |
<1 еа/цм2 |
<10 еа/цм2 |
<15 еа/цм2 |
Металне нечистоће |
≤5Е10атома/цм2 |
ТО |
|
БПД |
≤1500 еа/цм2 |
≤3000 еа/цм2 |
ТО |
ТСД |
≤500 еа/цм2 |
≤1000 еа/цм2 |
ТО |
Фронт Куалити |
|||
Фронт |
И |
||
Завршна обрада |
Си-фаце ЦМП |
||
Честице |
≤60еа/вафер (величина≥0,3μм) |
ТО |
|
Огреботине |
≤5еа/мм. Кумулативна дужина ≤Пречник |
Кумулативна дужина≤2*Пречник |
ТО |
Наранџина кора/рупице/мрље/пруге/пукотине/загађење |
Ниједан |
ТО |
|
Ивичне струготине / удубљења / фрактуре / хексадецималне плоче |
Ниједан |
||
Политипске области |
Ниједан |
Кумулативна површина≤20% |
Кумулативна површина≤30% |
Предње ласерско обележавање |
Ниједан |
||
Бацк Куалити |
|||
Завршна обрада |
Ц-фаце ЦМП |
||
Огреботине |
≤5еа/мм, кумулативна дужина≤2*Пречник |
ТО |
|
Дефекти на полеђини (ивичњаци/удубљења) |
Ниједан |
||
Храпавост леђа |
Ра≤0,2нм (5μм*5μм) |
||
Ласерско обележавање леђа |
1 мм (од горње ивице) |
||
Едге |
|||
Едге |
Цхамфер |
||
Паковање |
|||
Паковање |
Епи-реади са вакуум паковањем Мулти-вафер касета паковање |
||
*Напомене: „НА“ значи да нема захтева Ставке које нису поменуте могу се односити на СЕМИ-СТД. |