Шта је МОЦВД систем?

МОЦВД, познат као метално-органско хемијско таложење паре (МОЦВД), је техника за узгој танких полупроводничких филмова на подлози. Са МОЦВД, многи нано-слојеви се могу депоновати са великом прецизношћу, сваки са контролисаном дебљином, да би се формирали материјали са специфичним оптичким и електричним својствима.

МОЦВД систем је тип система хемијског таложења паре (ЦВД) који користи металне органске прекурсоре за таложење танких филмова материјала на подлогу. Систем се састоји од реакторске посуде, система за испоруку гаса, држача супстрата и система за контролу температуре. Метални органски прекурсори се уносе у реакторски суд заједно са гасом-носачем, а температура се пажљиво контролише како би се обезбедио раст висококвалитетног танког филма.

Употреба МОЦВД-а има неколико предности у односу на друге технике таложења. Једна од предности је што омогућава таложење сложених материјала уз прецизну контролу над дебљином и саставом танких филмова. Ово је посебно важно за производњу полупроводничких уређаја високих перформанси, где својства материјала танких филмова могу имати значајан утицај на перформансе уређаја.

Још једна предност МОЦВД-а је да се може користити за наношење танких филмова на различите подлоге, укључујући силицијум, сафир и галијум-арсенид. Ова флексибилност чини га основним процесом у производњи широког спектра полупроводничких уређаја, од компјутерских чипова до ЛЕД диода.

МОЦВД системи се широко користе у индустрији полупроводника и били су инструментални у развоју многих напредних технологија. На пример, МОЦВД је коришћен за производњу високоефикасних ЛЕД диода за осветљење и дисплеј, као и соларне ћелије високих перформанси за фотонапонске апликације.