ЦВД СиЦ фокусни прстен

Напредни процес хемијског таложења паре (ЦВД).

ЦВД процес који се користи у производњи ЦВД СиЦ фокусног прстена укључује прецизно таложење СиЦ у специфичне облике, праћено ригорозном механичком обрадом. Ова метода осигурава да су параметри отпорности материјала конзистентни, захваљујући фиксном односу материјала који је одређен након опсежног експериментисања. Резултат је фокусни прстен са неупоредивом чистоћом и униформношћу.

Супериорна отпорност на плазму

Један од најупечатљивијих атрибута ЦВД СиЦ фокусног прстена је његова изузетна отпорност на плазму. С обзиром на то да су фокусни прстенови директно изложени плазми унутар вакуум реакционе коморе, потреба за материјалом који може да издржи тако оштре услове је најважнија. СиЦ, са нивоом чистоће од 99,9995%, не само да дели електричну проводљивост силицијума, већ нуди и супериорну отпорност на јонско јеткање, што га чини идеалним избором за опрему за плазма гравирање.

Висока густина и смањена запремина јеткања

У поређењу са силицијумским (Си) фокусним прстеновима, ЦВД СиЦ фокусни прстен има већу густину, што значајно смањује запремину јеткања. Ово својство је кључно за продужење животног века фокусног прстена и одржавање интегритета процеса производње полупроводника. Смањена запремина нагризања доводи до мањег броја прекида и нижих трошкова одржавања, што на крају повећава ефикасност производње.

Широки појас и одлична изолација

Широки појас СиЦ-а обезбеђује одлична изолациона својства, која су неопходна за спречавање нежељених електричних струја да ометају процес нагризања. Ова карактеристика осигурава да фокусни прстен задржи своје перформансе током дужих периода, чак и под најизазовнијим условима.

Топлотна проводљивост и отпорност на топлотни удар

ЦВД СиЦ фокусни прстенови показују високу топлотну проводљивост и низак коефицијент експанзије, што их чини веома отпорним на топлотни удар. Ова својства су посебно корисна у апликацијама које укључују брзу термичку обраду (РТП), где фокусни прстен мора да издржи интензивне топлотне импулсе праћене брзим хлађењем. Способност ЦВД СиЦ фокусног прстена да остане стабилан у таквим условима чини га незаменљивим у савременој производњи полупроводника.

Механичка чврстоћа и издржљивост

Висока еластичност и тврдоћа ЦВД СиЦ фокусног прстена пружају одличну отпорност на механички удар, хабање и корозију. Ови атрибути обезбеђују да фокусни прстен може да издржи ригорозне захтеве производње полупроводника, одржавајући свој структурни интегритет и перформансе током времена.

Примене у различитим индустријама

1. Производња полупроводника

У области производње полупроводника, ЦВД СиЦ фокусни прстен је суштинска компонента опреме за јеткање плазмом, посебно оне која користи системе капацитивно спрегнуте плазме (ЦЦП). Висока енергија плазме потребна у овим системима чини отпорност на плазму и издржљивост ЦВД СиЦ Фоцус прстена непроцењивим. Поред тога, његова одлична термичка својства чине га погодним за РТП апликације, где су брзи циклуси грејања и хлађења уобичајени.

2. ЛЕД носачи плочица

ЦВД СиЦ фокусни прстен је такође веома ефикасан у производњи носача ЛЕД плочица. Термичка стабилност материјала и отпорност на хемијску корозију осигуравају да фокусни прстен може издржати оштре услове присутне током производње ЛЕД диода. Ова поузданост доводи до већег приноса и бољег квалитета ЛЕД плочица.

3. Мете за прскање

У апликацијама за распршивање, висока тврдоћа и отпорност на хабање ЦВД СиЦ фокусног прстена чине га идеалним избором за мете за распршивање. Способност фокусног прстена да одржи свој структурни интегритет под високоенергетским ударима обезбеђује доследне и поуздане перформансе прскања, што је кључно у производњи танких филмова и премаза.