Чишћење резервоара

Семицорек резервоар за чишћење је направљен од висококвалитетног кварца, нуди неупоредиве перформансе и поузданост, обезбеђујући да су полупроводничке плочице темељно очишћене и без било каквих загађивача који би могли да угрозе њихов интегритет.

Кварц је изабран за конструкцију резервоара за чишћење због његове изузетне хемијске отпорности и термичке стабилности. Резервоар за чишћење кварца је отпоран на јаке хемикалије које се обично користе у процесима чишћења, као што су флуороводонична киселина и други јаки нагризачи. Његова термичка стабилност осигурава да може да издржи високе температуре које су често потребне у обради полупроводника без деформисања или деградације, задржавајући свој структурни интегритет и перформансе током дугих периода.

Дизајн резервоара за чишћење је пажљиво пројектован да оптимизује процес чишћења. Његова глатка, бешавна унутрашњост минимизира стварање честица и спречава накупљање загађивача. Резервоар за чишћење је дизајниран да прихвати различите методе чишћења, укључујући хемијске купке, ултразвучно чишћење и мегазвучно чишћење. Свака метода има своје специфичне предности, а свестраност резервоара за чишћење омогућава му да се користи у више фаза процеса чишћења, од почетног чишћења плочице до коначног испирања и сушења.

У хемијским купатилима, резервоар за чишћење обезбеђује да су плочице равномерно изложене растворима за чишћење, промовишући доследно и темељно чишћење. Уједначена изложеност је критична за уклањање честица, органских остатака и металних загађивача са површине плочице. Код ултразвучног и мегазвучног чишћења, високофреквентни звучни таласи стварају микроскопске кавитационе мехуриће у раствору за чишћење. Када се ови мехурићи колабирају, стварају снажне ударне таласе који уклањају и уклањају загађиваче са површине плочице. Робусна кварцна конструкција резервоара за чишћење може да издржи интензивне услове настале овим методама чишћења, обезбеђујући дугорочну издржљивост и ефикасност.