Полуводичка туш кабина

ТхеПлоча за дистрибуцију гаса, који се често назива "туш каше", може личити на конвенционално туш вештачко, али његова цена може достићи на стотине хиљада, знатно већа од типичног купатила.

Површина дистрибутивне плоче гаса садржи стотине или чак хиљаде малених, прецизно уређених рупа, подсећа на фино ткалну неуролну мрежу. Овај дизајн омогућава прецизну контролу углова протока и убризгавања гаса, осигуравајући да се сваки део подручја прераде вафле равномерно "окупа" у процесу гаса. Ово не само да повећава ефикасност производње, већ и побољшава квалитет производа.

Дистрибуција гаса интегрална је за кључне процесе као што су чишћење, јетковање и таложење. Директно утиче на тачност полуводичких процеса и квалитета финалних производа, што га чини критичном компонентом у различитим апликацијама за дистрибуцију гаса.

Током процеса реакције резања површинатушје густо прекривено микропорима (отвор бленде 0,2-6 мм). Прецизно дизајнираном структуром канала и путање гаса, посебан процес гас треба да прође кроз хиљаде малих рупа на јединственој гасној плочи, а затим се равномерно депоновати на површини од резине. Филмски слој у различитим областима одлихе треба да осигура велику униформност и доследност. Стога, поред изузетно високих захтева за отпорност на чистоћу и корозију, дистрибуција гаса има строге захтеве на доследности отвора малим рупама на дистрибуцији гаса и бурри на унутрашњем зиду малих рупа. Ако су толеранција величине отвора и стандардна девијација угрожености превелика или су на било којем унутрашњем зиду, дебљина дебљине депоносаног слоја филма биће другачија, што ће директно утицати на принос процеса опреме.

Материјал дистрибутивне плоче гаса је понекад ломљиви материјал (попут једног кристалног силицијума, кварцно стакло, керамика), која се лако пробија под акцијом спољне силе. То је такође ултра-дубока рупа у року од 50 пута пречника микропоре, а ситуација сечења не може се директно приметити. Поред тога, топлота за сечење није лако пренијети и уклањање чипа је тешко, а бушилица се лако поквари због блокаде чипа. Стога је његова прерада и припрема веома тешка.

Поред тога, у процесима потпомогнутим плазмима (као што је ПЕЦВД и суво јетњи), глава туширања, као део електроде, такође треба да створи јединствено електрично поље кроз РФ напајање за промоцију уједначене дистрибуције плазме, на тај начин побољшавају униформност јеткања или таложења.

Пошто се гасови који се користе у поступку производње полуводича могу бити високи температури, под високим притиском или корозивом, туш кабина је обично направљен од материјала отпорних на корозију. У стварној производњи, због различитих сценарија употребе и стварне потребне прецизности, дистрибуција гаса може се поделити у следеће две категорије према његовим материјалним саставом:

(1) метална дистрибуција гаса

Материјали за дистрибутивне плоче са металним гасом укључују алуминијумска легура, нехрђајући челик и никл метал, међу којима је најчешће коришћени метални материјал за дистрибуцију гаса алуминијумска легура, јер има добру топлотну проводљивост и снажну отпорност на корозију. Широко је доступно и лако је обрађивати.

(2) неметална дистрибуција гаса

Материјали неметалних дистрибутивних плоча укључују једноструко кристално силицијум, кварцно стакло и керамичке материјале. Међу њима је најчешће коришћени керамички материјали ЦВД-СИЦ, Алумина керамика, силицијум нитридна керамика итд.

Семицорек нуди висококвалитетниЦВД Сиц Схостерхеадсу полуводичкој индустрији. Ако имате било каквих питања или су вам потребне додатне детаље, не устручавајте се да ступите у контакт са нама.

Контакт телефон # + 86-13567891907

Емаил: салес@семицОрек.цом